适用于物理,化学,表面科学,功能材料等行业的表面处理

功能特点

1. 多种功能可选择使用，蒸发室、溅射室满足不同材料的处理；

2. 高真空度：0.001Pa

3. 成膜均匀性：± 5%

4. 最大功率密度：80 W/cm³

5. 微波频率：2.45GHZ（连续或者脉冲）

6. 微波功率：3kw

主要特点

1. 控制系统：计算机手动、半自动或者全自动控制；

2. 腔体压力调节；

3. 气体喷淋沉积方式；

4. 可制备单晶、多晶金刚石薄膜，类金刚石薄膜DLC；